側寫 J2EE 應用程式類似側寫 Java™ 應用程式,如同「入門」主題中的說明,但是還是有些許差異,而且在開始使用之前,您必須先執行特殊的前置作業。
您可以側寫在 Rational® Application Developer (RAD) 環境中或是在獨立模式中執行的 J2EE 應用程式。
您可以從 RAD 環境中收集執行於不同應用程式伺服器上的 J2EE 應用程式資料。
請參閱說明的「入門」一節來顯示和分析您所收集到的資料。
您可以收集 RAD 之外的 J2EE 應用程式中的資料;例如,您可以側寫在 WebSphere Application Server (WAS) 上執行的應用程式。
標籤 |
Java 應用程式配置 |
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主機 |
指定目標應用程式伺服器。 |
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代理程式 |
指定 Java 側寫代理程式。 |
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側寫 |
概觀子標籤 |
請選取或新增一個側寫集。 如果要收集資料,每個側寫集都必須包含一或多個側寫類型,它們會顯示在畫面下半部的文字框中。 如果需要側寫類型的相關資訊,請參閱您要執行之側寫類型的「入門」主題 |
側寫 |
限制子標籤 |
如果要自動限制資料收集,請設定參數。 |
側寫 |
目的地子標籤 |
定義側寫專案及監視器,以及選擇是否要定義側寫輸出的 .trcxml 目的地檔。 (您可以從主要「側寫和記載」功能表選取 來顯示這個檔案。) |
程式碼 |
不適用。 |
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共用 |
請指定程式的啟動配置。 預設值是本端啟動,程式在背景中執行。 |